ЕК одобри 288 млн. евро държавна помощ за два микроелектронни проекта в Германия

05.06.2026   |   Начало»Проекти

Редактор
Мира Станкова

Редактор
Мира Станкова

Европейската комисия одобри отпускането на държавна помощ в размер на 288 млн. евро за изграждането на две нови производствени съоръжения в Германия, които ще разширят снабдителната верига на европейската полупроводникова индустрия. Става дума проекта на Carl Zeiss за нов завод за оборудване за производство на електронни компоненти в Оберкохен, провинция Баден-Вюртенберг, и за проект на Zadient Materials Europe за ново съоръжение за производство на полупроводникови изходни материали в Битерфелд, провинция Саксония-Анхалт.

Според Комисията държавната помощ ще допринесе за укрепването на позицията и автономността на Европейския съюз в снабдителната верига на полупроводниковата индустрия в съответствие с целите, заложени в европейския Законодателен акт за интегралните схеми и политическите насоки на ЕК за периода 2024 – 2029 г.

В рамките на проекта HNA@SCALE Carl Zeiss планира да произвежда екстремни ултравиолетови (EUV) оптични колони от следващо поколение. Тези колони са необходими за EUV литографски машини от следващо поколение, произвеждани от нидерландската компания ASML. EUV литографията е решаваща за производството на най-съвременни интегрални схеми, необходими в ключови сфери като високопроизводителните изчисления и системите за автономно шофиране. Помощта ще бъде отпусната под формата на директен грант от 222 млн. евро.

Германия информира ЕК и за плановете си да подкрепи инвестиционния проект SiC-Pro на Zadient за изграждане на първото по рода си производствено съоръжение за ултрачист силициев карбид (SiC), който да се използва като изходен материал за полупроводникови компоненти. Проектът включва кръгова система, в която процесните газове се възстановяват и вкарват отново в производствения цикъл. Това е нов процес в ЕС и се очаква да спомогне за постигането на високо качеството на материала, енергийна ефективност и дългосрочна рентабилност. Помощта ще бъде отпусната под формата на директен грант от 66 млн. евро.

За да получат държавната подкрепа, Zeiss и Zadient се задължават да:

• гарантират широкото въздействие на проектите с положителни ефекти върху веригата на стойността на полупроводниковата индустрия в ЕС чрез осигуряване на доставките и увеличаване на квалифицираната работна ръка;
• засилят сътрудничеството с университети и научноизследователски институции;
• изпълняват поръчки с приоритет в случай на недостиг;
• развият специализирани обучения;
• споделят с Германия потенциални свързани с проекта печалби, надхвърлящи актуалните прогнози.

Ключови думи: ЕК   полупроводникова индустрия   микроелектроника   Carl Zeiss   EUV   Zadient   SiC  

Област: Електроника