Микроелектронното производство ще стане по-екологично с нови технологии, създадени в Европа

20.10.2026   |   Начало»Новини

Редактор
Мира Станкова

Редактор
Мира Станкова

Германският изследователски институт за фотонни микросистеми Fraunhofer IPMS съобщи, че заедно с партньорите по европейския проект GENESIS работи за създаването на технологии, с чиято помощ микроелектронното производство да стане по-щадящо околната среда. "От техническа гледна точка през последните десетилетия в микроелектрониката се наблюдава огромен напредък. В момента вниманието се нарочва към по-екологосъобразните начини за производство на чипове", отбелязва Джулия Остен, ръководител изследователски проекти във Fraunhofer IPMS и ръководител за GENESIS. "За първи път този проект събира заедно почти всички ключови играчи в Европа."

GENESIS, съкратено от "GENerate in Europe a Sustainable Industry for Semiconductors", обединява над 50 партньори от индустрията и изследователските и академичните среди в европейската верига на стойността на полупороводниковите технологии. Координатор на тригодишния проект е CEA-Leti. Целта му е да се създадат нови технологии до 2028 г., които отговарят на еврпейската Зелена сделка и Законодателния акт на Европейския съюз за интегралните схеми (EU Chips Act) и повишават устойчивостта на микрочиповете през целия им жизнен цикъл. Основните приоритеи включват намаляване на емисиите, замяна на критични материали и усъвършенстване на нови методи за рециклиране.

Проектът се финансира от ЕС чрез Съвместното предприятие за интегрални схеми (Chips Joint Undertaking) и асоциираните страни членки. Швейцарските партньори по проекта GENESIS получават допълнително финансиране от швейцарския Държавен секретариат за образование, изследователска дейност и иновации (SERI), а партньорите, базирани в Саксония, полуичават средства и от местната администрация на провинция Саксония.

Участието на Fraunhofer IPMS се фокусира главно върху минимизирането на отпадъците и емисиите. "Проучваме алтернативни материали и методи, както и възможности за намаляване на използването на PFAS", посочват от Института. Изследователите изучават и процесни газове, като хексафлуорид (SF₆) и азотен трифлуорид (NF₃), които имат значително по-висок глобален потенциал за затопляне от въглеродния диоксид. Институтът оценява алтернативни газови смеси и работи за оптимизирането на съществуващите системи за пречистване на отпадъчните газове с цел ефективно намаляване на емисиите.

Друга сфера, в която активно се включват изследовартелите от Fraunhofer IPMS, е възможността за повторно изпозлване на материалите. Задно с партньори от индустрията те проучват как суспензиите за химико-механична планаризация (CMP) могат да бъдат третирани и използвани повторно. "Полупроводниковите производствени процеси винаги се нуждаят от тези суспензии за полиране на пластините", обясни Остен. "Те са течни разтвори, съставени от вода, химични вещества и изключително фини абразивни частици." Целта е да се намали количеството на материала, използването на вода и генерирането на отпадъци, както и да се възстановят ценни суровини и да се върнат в производствения цикъл.

"Нашите модерни чисти стаи за 200- и 300-милиметрови пластини във Fraunhofer IPMS ни позволяват да тестваме устойчиви полупроводникови процеси в реалистични условия заедно с партньорите ни от индустрията и да оценим влиянието им върху иднустриалните производствени процеси", добавя Олсен. "Това ни помага да намалим рисковете, като в същото време ускоряваме внедряването на щадящи околната среда решения. Можем и да надграждаме опита си от проекта GreenICT, финансиран от BMFTR." Целта е възможно най-бързо научните открития да се внедрят в индустриални приложения.

"Ако можем да помогнем за производството на множеството чипове в устройствата ни с по-малко ресурси и с по-малко екологично въздействие, ще създадем истинска стойност за бъдещите поколения", коментира Остен.

 
В проекта участват и още две подразделения на Fraunhofer – Институтът за електронни наносистеми (ENAS) и Институтът за електронни микросистеми и твърдотелни технологии (EMFT).

Ключови думи: Fraunhofer IPMS   GENESIS   микроелектронно производство   устойчивост   микрочипове  

Област: Електроника